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基于同步辐射光刻的多层微纳结构制造(英文)

【摘要】高分子材料,如甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA),由于其价格相对低廉和容易加工,在集成电路和MEMS研究中受到广泛的关注.本文提出了一种基于PMMA基板的多层同步辐射光刻技术,用于制作微驱动器等有移动部件的设备.设计的多层结构包括140个单元的叉指平行电容器,每个电容器的间隔是2,μm,最小尺寸是4,μm,厚度是200,μm,故深宽比达到50∶1.该制造方法具有高深宽比、高产出率及成本低等优点.

【关键词】

17401 4页 纳米技术与精密工程 2009年2期 免费 李以贵, 杉山进

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