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直流电沉积纳米晶铁-镍-铬合金箔工艺、性能及其机理研究

【摘要】在含三价铬的水溶液中,以氨基乙酸(gly)为配位剂,直流电沉积制备出Fe-Ni-Cr合金箔,研究了电流密度、铬盐浓度对合金箔成分的影响;采用扫描电子显微镜和X射线衍射对合金箔进行表征,并对合金箔的各项性能进行了研究;采用电化学方法对铬电沉积机理进行初探.确定直流电沉积Fe-Ni-Cr合金箔的最佳工艺条件为:电流密度为15A/dm2,铬盐质量浓度为50 g/L,温度为60℃,pH值为1.5.在此条件下可获得厚度为20~30μm光亮、无裂纹的合金箔,其中Cr、Fe和Ni的质量分数分别为4%~6%、60%~65%、30%~35%.合金箔微观形貌为紧密堆砌的不规则板块状小晶粒;合金箔为纳米晶结

【关键词】

3881 7页 纳米技术与精密工程 2012年4期 免费 邓姝皓, 刘晗, 郭洁, 叶晓慧

全文来源于知网

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