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小口径永磁球头磁流变抛光工艺研究(英文)

【摘要】针对半球谐振子最小曲率半径2 mm难以被传统轮式磁流变抛光的难题,提出一种直径4 mm的永磁球头磁流变抛光技术,研究了其去除函数和工艺参数.结合滑动轴承润滑流体动力学分析方法,建立小口径永磁球头磁流变抛光区的三维去除模型.采用二维有限差分、松弛迭代法等数值方法对模型进行求解,结果为抛光区形貌与剪切力速度乘积图极其相似,而与压力速度乘积分布完全不同,证明了工件表面材料去除是以剪切力去除为主,而不是以正压力去除为主,并且采用剪切力与抛光相对速度建立去除函数.通过计算可以得到Preston方程中中间区域的K平均值为8.93×10-13m2/N.单因素实验结果表明当最小加工间隙越小,主轴转速越

【关键词】

3218 7页 纳米技术与精密工程 2015年4期 免费 徐江, 李旦, 陈明君, 刘赫男

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