【摘要】单晶金刚石在工业、国防等领域的应用日益广泛,对其加工表面质量的要求不断提高,使用常温低压的化学机械抛光可实现金刚石的超光滑低损伤表面加工.通过理论分析及实验研究得出,使用硅酸盐玻璃材质研磨盘进行研磨加工,可以将金刚石表面粗糙度Ra降至15~25 nm,且无明显机械划痕;在2 MPa压力及室温环境下进行单晶金刚石化学机械抛光实验,优选出Fenton试剂酸性水基抛光液,使用该抛光液抛光单晶金刚石可获得粗糙度Ra值4 nm以下的光滑表面.
【关键词】
全文来源于知网
光镊力谱系统双光束串扰因素研究 胡春光, 王国庆, 李宏斌, 胡晓东, 2017 32 7 ¥:0
收藏
空中光电位姿测量系统的抗干扰方法 王向军, 吕博 2017 78 6 ¥:0
收藏
1000~2500 nm宽波段的葡萄糖吸收光谱的测量波长优选 张紫杨, 孙迪, 刘冰洁, 孙翠迎, 刘 2017 193 6 ¥:0
收藏
视频中运动电车电线的实时自动检测跟踪算法 刘见昕, 蒲灿, 柴晓飞, 孔昭松, 汪 2017 199 7 ¥:0
收藏
防护热板法快速测量物质导热系数 索亚运, 李艳宁 2017 287 6 ¥:0
收藏