【摘要】采用液固耦合形式的抛光工具头,实现了兆声作用的柔性灵活附加,计算了多层中间介质情况下的声能量透射率,在此基础上开展了兆声作用下的硅片化学机械抛光实验研究.结果表明,较之传统抛光,在兆声复合抛光作用下硅片的表面质量得到了明显的改善.其中,研磨硅片的粗抛光过程,兆声复合抛光硅片的表面粗糙度Ra均值由0.330 4μm下降到0.075 0μm,传统抛光硅片的Ra均值则由0.310 9μm下降到0.090 3μm;抛光硅片的二次精抛过程,兆声复合抛光硅片的Ra均值降至0.495 nm,传统抛光硅片Ra均值达到0.560 nm.
【关键词】
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