【摘要】基于化学机械抛光(CMP)技术的基本原理,选取合适的抛光液,研究了铝合金反射镜磁流变抛光过程中材料的去除机理,分析了磁流变平坦化加工的可行性,并通过单因素实验确定了最优参数,最后研究了相应去除函数的稳定性.实验结果表明,铝镜经磁流变抛光后获得了较高的表面质量,表面粗糙度达到Ra=5.593 nm,且去除了车削时产生的纹路;铝镜磁流变去除函数稳定,去除效率较高.
【关键词】
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