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饱和、不饱和(N-杂环化)低聚硅烷的结构和光谱性质

【摘要】用密度泛函理论(DFT)和含时密度泛函理论(TD—DFT)对线型(饱和N-杂环化)和(苯并N-杂环化)低聚硅烷的电子结构和吸收光谱性质以及溶剂效应进行了比较研究.对各体系的基态电子结构在B3LYP/6—31G(d,P)水平上进行了全优化,讨论了电荷分布和前线分子轨道性质.在获得基态稳定构型的基础上,用B3LYP/6—311+G(d)方法计算了电子吸收光谱的性质,探讨了主链的线型增长和溶剂对电子吸收光谱的影响.结果表明,随着主链的增长,低聚硅烷的电子结构发生明显扭曲,在(苯并N-杂环化)聚硅烷中形成了邻近苯并N-杂环之间才丌堆积作用,有利于结构的稳定.两类低聚硅烷的吸收光谱都随着主链的增

【关键词】

1356 0页 分子科学学报(中英文版) 2014年2期 免费 王桂荣1 解菊2 董玉慧3 薛运生1

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